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おおいかぶせること。 ひふう。
数学、特に代数トポロジーにおいて、被覆写像(covering map)あるいは被覆射影(covering projection)とは、位相空間 C から X への連続全射 p のうち、 X の各点が p により「均一に被覆される」開近傍をもつものをいう。厳密な定義は追って与える。このとき C を被覆空間(covering
グラフ G の頂点被覆とは頂点の集合 C であり、G の各辺は C 内の少なくとも1つの頂点と接合する。このとき集合 C は G の辺を「被覆 (cover)」すると言う。次の図は2つのグラフの頂点被覆の例を表したものである（集合 C は赤で示されている）。 最小頂点被覆 (minimum
上からつつむようにかぶさる。
「おおいかぶさる」に同じ。
被覆するようにすることができる。 同様に、二次元平面における単位円板の任意の開被覆を細分して、円板の各点が三つ以上の開集合に属さないようにすることができる（二つでは一般には十分ではない）。故に円板の被覆次元は 2 となる。 互いに同相な空間の被覆次元は等しい。 ルベーグ被覆定理: 有限単体的複体
自体はManifold法が先に提案したものであり、両者は等価なものである。 長所 節点の再配置（＝リメッシュ）を行わなくても、大変形、亀裂進展、自由表面流れの解析が可能。 解析対象の形状に沿った要素分割を行う必要がなく、モデルの生成が容易。 短所 基本境界面（ディリクレ境界面）と数学的な領域が一致
{\text{s.t.}}\;V_{j}\subseteq U_{k}} 有限被覆となる細分を有限細分という。開被覆の細分を考えるときには暗黙に開集合からなる細分であることを仮定している場合が多い。 位相空間 コンパクト 層 (数学) アーベル圏 鈴木 晋一『曲面の線形トポロジー＜上＞、＜下＞』槇書
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